這兩年為三星半導(dǎo)體業(yè)務(wù)立功最大的是存儲(chǔ)芯片部門，貢獻(xiàn)的營(yíng)收、利潤(rùn)達(dá)到七八成，而三星的晶圓代工業(yè)務(wù)雖然有高通這樣的VIP客戶，但在7nm節(jié)點(diǎn)上高通會(huì)轉(zhuǎn)投回臺(tái)積電，三星要想拉攏到更多的客戶，只能從工藝技術(shù)上著手了。這也是三星為什么跳過(guò)非EUV工藝的7nm工藝，直接上7nm LPP EUV工藝的原因，如今他們的7nm LPP工藝已經(jīng)完成了Synopsys的物理認(rèn)證，意味著7nm EUV工藝全球首發(fā)了。

在幾大半導(dǎo)體公司中，英特爾的10nm還沒(méi)搞定，7nm就更遙遠(yuǎn)了，臺(tái)積電的7nm工藝（N7工藝）量產(chǎn)比較順利，會(huì)有蘋果、海思、高通、NVIDIA、AMD等客戶陸續(xù)流片、量產(chǎn)，不過(guò)臺(tái)積電的第一代7nm工藝還是傳統(tǒng)的多重曝光工藝，2019年的N7 Plus工藝才會(huì)使用EUV光刻工藝。

Globalfoundries這邊也是類似的路線，今年量產(chǎn)的7nm DUV還是傳統(tǒng)的深紫外光刻工藝，此前號(hào)稱頻率可達(dá)5GHz，AMD的7nm Zen 2處理器會(huì)使用Globalfoundries的7nm工藝，明年初問(wèn)世，2020年的再下一代才是7nm EUV工藝。

三星在EUV工藝上市最激進(jìn)的，直接跳過(guò)了第一代非EUV光刻的7nm工藝，根據(jù)之前的路線圖，三星第一個(gè)使用EUV工藝的就是7nm LPP工藝，預(yù)定今年下半年量產(chǎn)。日前Synopsys與三星聯(lián)合宣布已經(jīng)使用后者的7nm LPP工藝完成了IC驗(yàn)證器的認(rèn)證工作。

這次認(rèn)證完成之后，三星的7nm LPP工藝可以立即提供認(rèn)證的運(yùn)行庫(kù)，包括DRC設(shè)計(jì)規(guī)則檢查、LVS布局與原理圖、金屬填充技術(shù)文件等等，這也意味著三星的7nm LPP工藝走入了正軌。

根據(jù)之前的消息，ASML的EUV光刻機(jī)中，臺(tái)積電訂購(gòu)了大約10臺(tái)，三星訂購(gòu)了大約6臺(tái)，英特爾訂購(gòu)了3臺(tái)，Globalfoundries的EUV訂單數(shù)量不詳，國(guó)內(nèi)的中芯國(guó)際也訂購(gòu)了1臺(tái)EUV光刻機(jī)用于7nm工藝研究，明年初交貨。

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